本發明涉及一種基于P/N異質結協同消反射性能的硅/二氧化鈦三維復合材料,依以下方法制備:(1)首先用堿液對硅片進行各向異性刻蝕,在硅片表面形成緊密排列的四方錐形貌;(2)然后將步驟(1)刻蝕后的硅片進行親水處理,在其表面生長二氧化鈦晶種,并置于馬弗爐內煅燒;(3)最后將步驟(2)中所得到的表面二氧化鈦晶種的硅片置于反應釜中,采用水熱法得到的硅/二氧化鈦三維復合材料。本發明所涉及的復合材料兼具優異消反射和高效分離光生電荷的能力,可以應用到光催化、光電轉化器件和太陽能電池等領域。
聲明:
“基于P/N異質結協同消反射性能的硅/二氧化鈦三維復合材料及應用” 該技術專利(論文)所有權利歸屬于技術(論文)所有人。僅供學習研究,如用于商業用途,請聯系該技術所有人。
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