本發明公開了一種高飽和磁通密度軟磁復合材料的非均勻形核包覆處理方法。利用非均勻形核工藝在金屬磁粉表面均勻包覆一層鐵氧體絕緣層,經粘結、壓制成型、高溫退火、噴涂工藝,制備得到金屬軟磁復合材料。本發明的優點在于:采用非均勻形核工藝容易對磁粉進行均勻包覆,包覆層致密、厚度可控,由于包覆層是鐵磁性物質,可以有效減少磁稀釋作用,同時具有較好的抗氧化性、高的電阻率,易于制備得到具有高飽和磁通密度高磁導率的軟磁復合材料;且包覆方法優于現有鐵氧體包覆工藝,方法簡便,適合工業化生產。
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