本發明公開了一種穩定的光催化分解水制氫的三元復合材料的制備方法,以CdS半導體材料在低溫水熱條件下復合MOF?808和還原氧化石墨烯而制備。該復合材料能夠在光輻射條件下保持穩定,具有優異的耐光腐蝕性能,合成過程中不使用高沸點有機溶劑,不污染環境。該復合材料比純CdS具有更低的帶隙值,能夠有效的響應可見光,增強對光的吸收。CdS通過與MOF?808和RGO復合,不僅提高了CdS的有效催化活性面積,縮短了光生載流子的遷移距離,而且極大加快了載流子遷移速率,提高了量子利用效率,進而提高了復合材料的光催化制氫活性。光催化分解水制氫性能測試表明該三元復合材料光催化制氫性能優異。
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