權利要求
1.粉末冶金材料表面耐磨防護的復合處理方法,其特征在于包括: 提供作為基體的粉末冶金材料; 采用表面強化技術對所述基體進行致密化處理,從而在所述基體表面形成具有納米晶體結構的表面層; 以及,采用物理氣相技術在所述表面層表面沉積氮化物陶瓷層,從而實現對粉末冶金材料的防護。2.根據權利要求1所述的復合處理方法,其特征在于包括:采用噴丸強化、表面輥壓、熱等靜壓的任意一種表面強化技術對所述基體進行致密化處理; 和/或,所述物理氣相技術包括多弧離子鍍技術或磁控濺射技術。 3.根據權利要求1所述的復合處理方法,其特征在于包括:采用噴丸強化技術對所述基體進行致密化處理,其中,噴丸壓力為0.3~0.8MPa,彈丸直徑為0.8~2.0mm的GCr15,頻率為15~20KHz,致密化處理時間為15~30min。 4.根據權利要求1所述的復合處理方法,其特征在于:所述具有納米晶體結構的表面層的厚度為50~1000μm; 和/或,所述氮化物陶瓷層包括CrN層、CrNO層、TiN層中的任意一種; 和/或,所述氮化物陶瓷層的厚度為2~8μm; 和/或,所述粉末冶金材料包括鐵基粉末冶金材料、粉末冶金硬質合金、粉末冶金磁性材料、粉末冶金高溫合金中的任意一種。 5.根據權利要求1所述的復合處理方法,其特征在于包括: 將基體置于鍍膜裝置的真空腔體中,以氮氣為工作氣氛,以Cr靶作為靶材,采用多弧離子鍍技術在所述表面層上沉積形成CrN層,其中,靶電流50~150A,沉積氣壓為1~4Pa,沉積時間為1~3h,同時控制偏壓以1V/min~10V/min的速率由0~-50V升高至-50~-150V。 6.根據權利要求1所述的復合處理方法,其特征在于包括:基體置于鍍膜裝置的真空腔體中,以氮氣和氧氣為工作氣氛,以Cr靶作為靶材,采用多弧離子鍍技術在所述表面層上沉積形成CrNO層,其中,靶電流50~150A,氧氣流量為80~120sccm,沉積氣壓為1~4Pa,沉積時間為1~3h,同時控制偏壓以1V/min~10V/min的速率由0~-50V升高至-50~-150V。 7.根據權利要求1所述的復合處理方法,其特征在于包括:將基體置于鍍膜裝置的真空腔體中,以氮氣為工作氣氛,以
聲明:
“粉末冶金材料表面耐磨防護的復合處理方法及其用途” 該技術專利(論文)所有權利歸屬于技術(論文)所有人。僅供學習研究,如用于商業用途,請聯系該技術所有人。
我是此專利(論文)的發明人(作者)