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    氧化亞銅/二硫化鉬復合材料及其制備方法與應用

    877   編輯：管理員   來源：中冶有色網  
    2023-03-18 15:57:03
    本發明公開了一種Cu2O/1T MoS2復合材料及其制備方法與應用，屬于光學材料制備技術領域，該復合材料以MoS2(1T MoS2)納米片為襯底原位生長具有p型半導體性質的Cu2O材料(Cu2O/1T MoS2)并應用于甲基橙的光降解。該復合材料通過獲得金屬相MoS2，金屬相MoS2具有非常好的導電性，有助于半導體材料Cu2O所產生的電子空穴對的快速轉移，從而降低電子空穴對的再次復合，大大提高了Cu2O的光學性質。并成功應用于甲基橙的光降解，很大程度上提高了Cu2O對的光降解性能。
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    標簽：
    復合材料
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