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    三元層狀碳化物Mo2Ga2C復合花狀MoS2納米顆粒復合材料及其制備方法和應用

    1140   編輯：管理員   來源：中冶有色網  
    2023-03-18 15:59:02
    本發明公開了一種三元層狀碳化物Mo2Ga2C復合花狀MoS2納米顆粒復合材料及制備方法和應用。所述復合材料以花狀MoS2納米顆粒作為復合物，三元層狀碳化物Mo2Ga2C作為搭載基底材料；所述三元層狀碳化物Mo2Ga2C的長約為5μm，寬約為3μm，為一種六方晶相的層狀物骨架材料，其中兩個Ga層以簡單的六角形排列堆疊在Mo2C層之間。密堆積的Mo原子與雙層Ga交錯，形成Mo?Mo?Ga?Ga?Mo?Mo分層，其中兩個Ga層正好位于彼此的頂部(不是緊密堆積)。碳原子占據Mo原子之間的八面體位點。所述花狀MoS2納米顆粒均勻分布在層狀Mo2Ga2C的表面，形成穩定的搭載結構。本發明還公開了所述復合材料的制備方法，所述制備方法成本低，制備條件簡單，重復性高。本發明還提供了所述納米材料作為水裂解催化電極方面的應用，所述電極材料具有導電性高，循環穩定性強等優點。
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    “三元層狀碳化物Mo2Ga2C復合花狀MoS2納米顆粒復合材料及其制備方法和應用” 該技術專利(論文)所有權利歸屬于技術(論文)所有人。僅供學習研究，如用于商業用途，請聯系該技術所有人。
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    復合材料
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