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    氮化鈦新型復合材料的SMT金屬掩模板之制作方法

    999   編輯:管理員   來源:中冶有色網  
    2023-03-18 16:13:02
    氮化鈦新型復合材料的SMT金屬掩模板之制作方法,涉及電子元件表面貼裝技術領域,尤其涉及一種利用新型復合材料制作高精度貼裝孔掩模板的制作方法,通過0.025-0.035Wb磁通量的磁場同高壓電場組成正交電磁場將高密度的金屬耙材納米氮化鈦激發出高密度的微離子體,微離子體在洛侖茲力的作用下加速飛向靶面,高速度轟擊靶面,使靶面上被濺射出來的原子遵循動量轉換原理以較高的動能脫離靶面飛向掩模板的表面淀積一層約500-1500納米的膜;其有益效果是:本發明制作的掩模板,其表面鍍有一層約500-1500納米的氮化鈦膜,使得掩模板表面光亮,有利于焊膏印刷時,錫珠在掩模板上的滾動。
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