本發明公開一種抗反射復合材料及其制備方法和應用,所述方法包括如下步驟:清洗金屬基底并干燥后使用高能激光對所述金屬基底進行掃描加工,得到光陷阱微米結構金屬基底;將金屬基底加熱,還原所述金屬基底表面氧化物,3min后電離氫氣進一步還原金屬基底表面氧化物,3min后關閉氫氣和等離子體源;3min后,通入氫氣和碳氫化合物,設置等離子體源輸出功率,待其生長預定時間后,關閉加熱及等離子體源,真空下冷卻至室溫,得到抗反射復合材料。本發明方法工藝簡單、成本低,所得抗反射材料在具有低反射率、高光吸收率的同時具有良好的耐久性及靈活性。
聲明:
“抗反射復合材料及其制備方法和應用” 該技術專利(論文)所有權利歸屬于技術(論文)所有人。僅供學習研究,如用于商業用途,請聯系該技術所有人。
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