本發明提供了控制電磁光譜的可見、熱、nIR、SWIR和微波/毫米帶中的反射和透射的幾何雕刻織物。該雕刻織物包含雕刻片,其可將鉸接的連接部分移成開放和封閉的構型。該雕刻片可以含重疊、反轉雕刻片、重疊反轉和非反轉雕刻片的圖案,或雕刻片區塊圖案取向??赏ㄟ^雕刻片的幾何形狀以及向雕刻織物施加的張力的量來調節電磁波的選擇性透射。該雕刻織物包含含有不對稱ePTFE層疊體、金屬化層、ePTFE膜層和織物的復合材料。第二ePTFE不對稱層疊體和金屬層可連接復合材料以形成雙面式復合物??墒褂玫窨炭椢飦硇纬蛇x擇性多光譜反射覆蓋物和服裝。
聲明:
“用于選擇性多光譜反射的雕刻復合材料” 該技術專利(論文)所有權利歸屬于技術(論文)所有人。僅供學習研究,如用于商業用途,請聯系該技術所有人。
我是此專利(論文)的發明人(作者)