本發明公開了一種量子點勻光復合材料及其制備工藝,所述量子點勻光復合材料包括量子點基底和設于所述量子點基底上的若干個微結構,所述微結構包括微透鏡結構和/或凹鏡結構,所述微透鏡結構包括凹陷結構和/或凸起結構,相鄰的微透鏡結構之間部分重疊,所述凹鏡結構包括若干個具有設定形狀的凹鏡體。本申請通過在量子點膜上設置微結構來實現勻光膜的效果,可以在背光模組中減少使用至少一層勻光膜,從而降低整個背光模組的厚度。
聲明:
“量子點勻光復合材料及其制備工藝” 該技術專利(論文)所有權利歸屬于技術(論文)所有人。僅供學習研究,如用于商業用途,請聯系該技術所有人。
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