本發明涉及飛機蒙皮技術領域,且公開了一種飛機復合材料蒙皮的電磁屏蔽方法,具體加工步驟如下:采用真空蒸鍍法,以二氧化硅或氧化鋁為蒸發材料,氧氣為補償氣體,在飛機蒙皮表面鍍一層二氧化硅或氧化鋁的絕緣層,絕緣層的厚度為0.5?1μm;采用真空鍍膜法,在飛機蒙皮絕緣層上鍍一層鉻層,鉻層的厚度為0.1?0.5μm;采用化學氣相沉積法,在30?55℃下,鉻層上鍍一層含氟二氧化硅層,含氟二氧化硅層的厚度為0.3?0.8μm;采用真空鍍膜法,在含氟二氧化硅層上鍍一層銅層,銅層的厚度為0.2?0.6μm。該飛機復合材料蒙皮的電磁屏蔽方法,使得飛機蒙皮具備良好的電磁屏蔽能力,而且多層材料的設置,同時也大大提高了飛機蒙皮的防護強度。
聲明:
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