本實用新型公開一種用于制備大尺寸C/C復合材料的CVD沉積爐裝置,包括爐體,爐體內部固定設置有分流板,分流板將爐體內部分為混氣室和沉積室,沉積室設置在混氣室上方;進氣組件包括進氣嘴,進氣嘴包括固定板以及固定設置在固定板一側的若干組螺旋片,相鄰兩組螺旋片之間設置有螺旋通道,固定板的中部開設有進氣口,進氣口連接有進氣管,進氣口與螺旋通道連通。本實用新型通過螺旋狀結構的進氣嘴對工藝氣體進行氣體擾動,提高擴散到混氣室工藝氣體的均勻性,提高后期擴散到沉積室的均勻性。
聲明:
“用于制備大尺寸C/C復合材料的CVD沉積爐裝置” 該技術專利(論文)所有權利歸屬于技術(論文)所有人。僅供學習研究,如用于商業用途,請聯系該技術所有人。
我是此專利(論文)的發明人(作者)