本發明提供了一種原位生成硫化鉍/蒙脫石插層復合材料的制備方法,以無水硝酸鉍和硫脲為原料,將其溶解后,向其中加入鈉基蒙脫石,攪拌均勻,然后確保溶液中無鉍離子后,離心出沉淀物,將沉淀物微波處理,最后離心、洗滌、烘干即可。本發明利用鉍的陽離子行絡合物作為硫化鉍的前驅體,能使鉍最大限度的進入到蒙脫石層間;本發明利用蒙脫石的特性,可以化學吸附陽離子,從而使陽離子能規則的排列,所以微波輻射加熱后,硫化鉍也會規則的排列在蒙脫石層間。本發明方法可以使得納米硫化鉍均勻的分散。由于蒙脫石(001)晶面起到了,限制硫化鉍生長的作用,所以生成的納米硫化鉍有特定的形狀。
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