一種用于陶瓷及其復合材料激光熔覆的氣氛控制裝置及方法,包括:容納熔覆樣品的箱體,箱體包括作為反應區域的腔室、位于箱體的頂部的用于激光透過的窗口、用于排出氣體的出氣口和用于引入氣體的進氣口;與進氣口相連,對箱體供給保護氣體的供氣系統;與出氣口相連,對箱體進行抽氣的排氣系統;用于檢測腔室內部的氣氛環境的氣氛監測系統;腔室的內部為由排氣系統抽氣而成的真空氣氛、或是由供氣系統的抽氣與排氣系統的保護氣體供氣相配合而形成的特定的氣體氛圍。
聲明:
“用于陶瓷及其復合材料激光熔覆的氣氛控制裝置及方法” 該技術專利(論文)所有權利歸屬于技術(論文)所有人。僅供學習研究,如用于商業用途,請聯系該技術所有人。
我是此專利(論文)的發明人(作者)