本發明涉及一種復合層,包括平坦化層和與所述平坦化層連接的陽極層,所述平坦化層由聚甲基丙烯酸甲酯/納米粒子復合材料制成;所述納米粒子為二氧化硅,二氧化鈦,三氧化二鋁或氧化鋅。由于平坦化層使用的材料為納米粒子摻入聚甲基丙烯酸甲酯的復合材料,二氧化鈦、三氧化二鋁等納米粒子與陽極層ITO界面性質相似,因此,復合層中的這兩部分粘附性好,結合力較高。而且,所述納米粒子自身具有吸收或反射紫外線的功能,摻入聚甲基丙烯酸甲酯中可以屏蔽紫外線。另外,聚甲基丙烯酸甲酯/納米粒子復合材料的熱分解溫度高,因此由其制成的復合層中平坦化層的耐熱性較高。
聲明:
“復合層、其制備方法及OLED器件” 該技術專利(論文)所有權利歸屬于技術(論文)所有人。僅供學習研究,如用于商業用途,請聯系該技術所有人。
我是此專利(論文)的發明人(作者)