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    高強度改性PBAT光催化抗菌薄膜及其制法

    809   編輯：管理員   來源：中冶有色網  
    2023-03-18 17:02:46
    本發明涉及光催化抗菌材料技術領域，且公開了一種高強度改性PBAT光催化抗菌薄膜，包括以下配方原料及組分：WO3?Ag3PO4?TiO2?蒙脫土復合材料、硅烷偶聯劑、低密度聚乙烯、聚己二酸/對苯二甲酸丁二酯、抗氧化劑。該一種高強度改性PBAT光催化抗菌薄膜，在有機蒙脫土表面生成納米TiO2，有效減少納米TiO2團聚和聚集，Fe摻雜WO3和Ag3PO4共同修飾納米TiO2，Fe摻雜增強了WO3在可見光吸收波段的光化學活性，TiO2光輻射下價帶上產生空穴與羥基基團或者水分子，生成羥基自由基，WO3導帶產生的光生電子與氧氣反應生產超氧自由基，破壞了微生物的生長和繁殖，聚乙烯包覆住WO3?Ag3PO4?TiO2?蒙脫土復合材料，使WO3?Ag3PO4?TiO2?蒙脫土復合材料均勻分散在聚己二酸/對苯二甲酸丁二酯中。
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