本發明涉及防偽技術領域,特別是涉及一種光學防偽方法,該光學防偽方法具體地涉及無痕的光學防偽簽名方法和隱藏的光學防偽圖案方法,該無痕的光學防偽簽名方法采用由NaYF4:Yb,Tm稀土上轉換材料和碳點基室溫磷光材料組成所述近紅外激發的碳點基室溫磷光復合材料為基底,借助近紅外激光筆來實現無痕的光學防偽簽名,具有字跡清晰、容易操作、安全性高等優點;該隱藏的光學防偽圖案方法采用由NaYF4:Yb,Tm稀土上轉換材料和碳點基室溫磷光材料組成所述近紅外激發的碳點基室溫磷光復合材料來制作,能方便快捷且清晰地用近紅外光激發出隱藏的防偽圖案。
聲明:
“光學防偽方法” 該技術專利(論文)所有權利歸屬于技術(論文)所有人。僅供學習研究,如用于商業用途,請聯系該技術所有人。
我是此專利(論文)的發明人(作者)