一種超分辨近場結構光盤,包括鍺銻碲記錄層和聚碳酸酯光盤基片,特征在于其構成是在光盤基片上依次濺射:第一保護層、非線性掩膜層、第二保護層、記錄層和第三保護層構成的,所述的非線性掩膜層為銻;所述的第一保護層、第二保護層和第三保護層都是氮化硅和二氧化硅的復合材料構成的;本發明綜合了傳統超分辨光盤和近場記錄的優點,聚焦光束作用在非線性掩膜層上形成一個動態開關小孔(尺寸小于衍射極限),聚焦光束通過小孔后,光斑大小在近場范是由小孔大小決定而不是由衍射極限決定,所以可以不受衍射極限的限制,大大縮小記錄點尺寸,提高光盤的存儲密度,具有很高的實用化前景。
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