本發明公開了一種多功能集成的納米線陣列制備方法。該方法為:首先在納米線陣列表面覆蓋一層有機高分子溶液,真空環境下靜置使有機高分子均勻滲透入納米線之間,繼而利用勻膠的方法得到平整的表面;然后使用干法去膠工藝處理表面,暴露部分納米線陣列并對這一部分納米線進行表面修飾;繼而利用有機溶劑去除剩余有機高分子并對因此暴露出的納米線部分做進一步修飾。本發明能夠在單根納米線表面可控、可重復且一致地集成多種功能,如發光、磁性、生物標記等,制備工藝簡單,對不同類型的納米線陣列具有普適性,適用于基因藥物載體、生物/化學傳感以及復合材料等新材料領域。
聲明:
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