本發明公開了一種石墨烯/聚吡咯電磁屏蔽膜及其制備方法。該石墨烯/聚吡咯電磁屏蔽膜,由以下方法制備而成:將吡咯溶液加入氧化石墨烯分散液中,升溫至90~95℃反應8~24h,得混合物;其中,吡咯與氧化石墨烯的質量比為95:5~70:30;上述反應完成后,冷卻至室溫,加入三氯化鐵,反應4~8h,抽濾,洗滌,干燥,即得。本發明提供的石墨烯/聚吡咯電磁屏蔽膜,吡咯的聚合分兩步完成,首先以吡咯和氧化石墨烯的反應實現了氧化石墨烯的還原和吡咯的聚合,隨后加入三氯化鐵繼續反應,抽濾,使復合材料具有“brick?and?mortar”結構,石墨烯片層在基體中高度有序,均勻分散,實現導電性能的大幅提高。
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