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    Cu2-xS自摻雜半導體光熱材料及其在隱形指紋成像方面的應用

    996   編輯：管理員   來源：中冶有色網  
    2023-03-18 17:18:51
    本發明公開了一種基于Cu2-xS自摻雜半導體光熱材料的隱形指紋成像方法。本發明利用烯丙基硫醇的聚合作用，對具有較高光熱轉換效率的Cu2-xS自摻雜半導體材料的表面進行修飾，使其具有兩親性，能夠選擇性地吸附于隱形指紋上，并借助于近紅外光輻射和近紅外成像儀，實現了復雜背景下隱形指紋地清晰成像。此外，本發明利用Cu2-xS-CdSe@ZnS的納米復合材料所構筑的一種熒光-光熱雙模態成像方法，可以在實現指紋形貌成像完整的條件下，成功地檢測到隱形指紋里含有的2, 4, 6-三硝基甲苯等烈性爆炸品殘留物，為偵察犯罪分子犯罪證據提供了有力的手段，能夠在司法鑒定和反恐應用中發揮重要作用。
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