本發明涉及一種調控鑭鈣錳氧薄膜磁性能的方法,所述方法包括:在硅襯底上,采用化學溶液沉積法制備鑭鈣錳氧薄膜,在溶液中摻入鐵離子,通過調節鐵離子的摻雜量,實現對鑭鍶錳氧薄膜磁性能的規律性調控。本發明制備的薄膜鐵離子分布均勻、表面粗糙度低、無微裂紋,性能穩定,且具有較好的磁學性能,利用該調控方法制備的LCMO薄膜,可在較寬溫度范圍內改變其居里溫度,這對于磁場傳感器及磁電復合材料的研究有著重要的意義,在微波通信、信息、計算機、航空航天等領域有著潛在的重要應用前景。
聲明:
“調控鑭鈣錳氧薄膜磁性能的方法” 該技術專利(論文)所有權利歸屬于技術(論文)所有人。僅供學習研究,如用于商業用途,請聯系該技術所有人。
我是此專利(論文)的發明人(作者)