本發明屬于真空微電子和顯示技術領域,具體涉及一種場發射用石墨烯/氧化鋅/石墨烯三明治結構的復合陰極材料的制備方法,包括以下步驟:S10,以氧化石墨烯粉末為原料,在單晶硅襯底上利用靜電噴霧沉積技術沉積一層石墨烯薄膜;S20,在石墨烯薄膜表面利用頻射磁控濺射技術濺射一層ZnO薄膜作為籽晶,以鋅鹽和六亞甲基四胺為原料,水熱生長ZnO納米針陣列,得到硅襯底上石墨烯/ZnO納米針陣列復合材料;S30,利用靜電噴霧沉積技術在ZnO表面沉積一層石墨烯,制得具有三明治結構的石墨烯/氧化鋅/石墨烯復合陰極材料。本發明的制備工藝可操作性強,設備要求不高,成本較低,可進行大面積快速制備,有望與大規模生產工藝兼容,得到的場發射用石墨烯/氧化鋅/石墨烯三明治結構的復合陰極材料場發射開啟場強較低且發射性能穩定。
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“場發射用石墨烯/氧化鋅/石墨烯三明治結構的復合陰極材料的制備方法” 該技術專利(論文)所有權利歸屬于技術(論文)所有人。僅供學習研究,如用于商業用途,請聯系該技術所有人。
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