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    多孔Cu-SiC復合膜及其制備方法

    1008   編輯：管理員   來源：中冶有色網  
    2023-03-18 17:50:06
    本發明屬于金屬復合材料及其制備技術領域，提供了一種多孔Cu?SiC復合膜及其制備方法，其制備方法包括如下步驟：S1、準備基片；S2、安裝靶位；S3、制備Cu3N?SiC復合膜；S4、制備多孔Cu?SiC復合膜，將Cu3N?SiC復合膜置于惰性氣體環境進行退火處理，得到均勻分布的多孔Cu?SiC復合膜。本發明通過利用Cu3N薄膜的較低的分解溫度，分解為單質銅和氮氣，雙靶共濺射，可以使得方便改變銅靶的濺射功率，有效調控薄膜中銅或SiC的含量，方便、有效調控復合膜內SiC的體積分布、粒度大小和金屬的成份，工藝簡單，膜與基片結合緊密、孔徑細小均勻，Cu?SiC薄膜孔隙分布均勻。
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    “多孔Cu-SiC復合膜及其制備方法” 該技術專利(論文)所有權利歸屬于技術(論文)所有人。僅供學習研究，如用于商業用途，請聯系該技術所有人。
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    標簽：
    復合材料
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