本發明公開了一種隱身抗毀屏蔽材料及其制備方法,為依次堆疊連接的蒙皮層、吸波泡沫層、抗毀層、電磁屏蔽增強層和反射層形成的整體層狀結構,其厚度為25?40mm。本發明將隱身性能、抗毀性能和電磁屏蔽性能三種材料完美結合,實現了一種復合材料體系擁有一級隱身性能、防彈抗毀效果和高性能電磁屏蔽??箽阅芡ㄟ^高密度聚乙烯聚合物材料實現;低面密度,是通過吸波泡沫、吸波材料二者之間的結構設計來實現,即解決了低面密度,又不影響隱身性能。
聲明:
“隱身抗毀屏蔽材料及其制備方法” 該技術專利(論文)所有權利歸屬于技術(論文)所有人。僅供學習研究,如用于商業用途,請聯系該技術所有人。
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