本實用新型公開了一種半消光膜,包括抗粘結層,所述抗粘結層、抗靜電層、防腐抗菌層、支撐層、復合材料層和改性半消光層依次疊加共擠而出,所述的抗粘連層的厚度為1.0μm~3μm,所述抗靜電層采用乙氧基化烷基胺制成,其厚度為0.1~0.15μm,所述防腐抗菌層的厚度為0.5?1.0μm,所述的支撐層的厚度為8~15μm,改性半消光層的厚度1.0~4.0μm,本實用新型結構簡單、合理,解決了薄膜的防腐抗菌性能差的問題,改性的納米二氧化硅和納米二氧化鈦的可以在薄膜的表面形成微小突起,減少異物與薄膜表面的接觸面積從而減少劃痕,提高半消光膜的品質,其產品表面效果穩定,使用時視覺美學感較強,產品質量穩定,使用壽命長,經濟效果好。
聲明:
“半消光膜” 該技術專利(論文)所有權利歸屬于技術(論文)所有人。僅供學習研究,如用于商業用途,請聯系該技術所有人。
我是此專利(論文)的發明人(作者)