本實用新型分流式CVD沉積室涉及復合材料制備領域,具體涉及化學氣相沉積,特別涉及一種分流式CVD沉積室,包括中空的沉積室筒體和進氣室,所述進氣室內設置有一進氣管,沉積室筒體的一端與進氣室相連,另一端上設置有一沉積室蓋,所述沉積室蓋上設置有一出氣口,所述分氣板上均布有若干個進氣孔,所述分氣板上還設置有一引氣裝置,氣體提升裝置設置在分氣板上,且通過分氣板上的進氣孔與進氣室相連;氣體分布裝置位于氣體提升裝置上方。本實用新型結構簡單,沉積效率高、制品增密快,利用氣體提升裝置和氣體分布裝置將進氣管中的氣流提升,有效解決因高度不同而帶來的制品增密情況不均勻的問題,且生產效率高,降低生產成本。
聲明:
“分流式CVD沉積室” 該技術專利(論文)所有權利歸屬于技術(論文)所有人。僅供學習研究,如用于商業用途,請聯系該技術所有人。
我是此專利(論文)的發明人(作者)