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    高透高遷移率ITO薄膜的制備方法

    1113   編輯：管理員   來源：中冶有色網  
    2023-03-18 20:17:05
    本發明屬于新能源新材料領域，尤其涉及一種ITO薄膜，具體為一種高透高遷移率ITO薄膜的制備方法。該方法包括以下步驟：S1、在襯底上生長In2O3籽晶層；S2、在S1生長的In2O3籽晶層上生長ITO薄膜；S3、將S2中的復合薄膜進行退火處理。本發明提供的ITO薄膜的制備方法，通過在兩步法制備ITO薄膜引入In2O3籽晶層，提高了與P型半導體材料的接觸特性，同時在制備過程中引入氫氣，提高了ITO薄膜透過率、與載流子遷移率，薄膜材料的性能顯著得到提高。
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