本發明公開了一種高透光低霧度的乙烯?四氟乙烯共聚物膜的制備方法,其特征在于:其通過流延膜擠出工藝進行制備,其工藝控制參數為:擠出機的擠出速率6Hz,擠出機的料筒的溫度為250?330℃,成型輥運行速度4?7m/min,牽引運行速度4?10m/min,拉伸比:10?35;平衡比:1.05?1.10,電磁成型輥表面采用鍍硬鉻、特氟龍、陶瓷或硅橡膠設置,電磁成型輥的輥筒表面硬度:HRC>=62;電磁成型輥直徑265?290mm×600?800mm;電磁成型輥溫度為80?150℃。本發明的優點是在提高ETFE薄膜的透明度同時保證了良好的平整性、優異的耐高溫性、尺寸穩定性、介電特性、阻燃性以及化學穩定性。該膜廣泛應用于新能源、半導體電子、薄膜建筑、電子電氣、航天航空等領域。
聲明:
“高透光低霧度的乙烯-四氟乙烯共聚物膜及其制備方法” 該技術專利(論文)所有權利歸屬于技術(論文)所有人。僅供學習研究,如用于商業用途,請聯系該技術所有人。
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