本發明公開了一種含金屬層Z切薄膜鈮酸鋰材料結構,該材料結構自下到上依次包括:襯底、金屬層、緩沖層、Z切鈮酸鋰薄膜,滿足Z切薄膜鈮酸鋰集成電光調控芯片制造需求。本發明在鈮酸鋰薄膜和襯底之間直接加入金屬層,在電光調控結構應用中,金屬層可直接作為一個電極層置于薄膜鈮酸鋰光波導正下方,與置于薄膜鈮酸鋰光波導正上方電極構建電場,對夾在上下電極中間的薄膜鈮酸鋰光波導進行電光調控,調控電極間距不受限于工藝精度,切電光重疊因子比傳統結構更高,電光調控效率更高。
聲明:
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