本發明涉及集成光學領域,特別涉及一種基于鈮酸鋰厚膜的高速電光調制器及其制備方法,所述調制器包括支撐襯底、鍵合層、光波導和調制電極,所述光波導位于鍵合層表面,且鍵合層上設置有一層鈮酸鋰厚膜;鈮酸鋰厚膜的厚度為8~20微米;本發明厚膜型鈮酸鋰的10微米左右的脊高使得調制效率可以提升60%以上且本發明的襯底因為減薄技術僅有8~20微米,可以避免該諧振效應進一步實現高速寬帶;而相比薄膜型波導的鈮酸鋰調制器,本發明又具有擴散型光波導低傳輸損耗和低耦合損耗的優點。
聲明:
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