本發明屬于寬帶電光調制器技術領域,具體涉及一種基于鈮酸鋰薄膜的寬帶行波電光調制器及其制備方法。該調制器包括:基底、鈮酸鋰薄膜、光學波導、緩沖層以及金屬電極。所述基底采用石英晶片;所述鈮酸鋰薄膜具有單晶結構且厚度為4至10微米;所述光學波導采用鈦擴散波導或退火質子交換波導;所述緩沖層采用二氧化硅薄膜;所述金屬電極采用行波電極結構,對于X切Y傳的鈮酸鋰薄膜,金屬電極的正負電極對稱地位于光學波導兩側,對于Z切Y傳的鈮酸鋰薄膜,金屬電極的正電極或負電極位于光學波導上方而另一極位于光學波導一側。本發明的有益技術效果在于:有效地提高電光調制器的折射率匹配與特征阻抗匹配,從而提高了調制器的工作帶寬。
聲明:
“基于鈮酸鋰薄膜的寬帶行波電光調制器及其制備方法” 該技術專利(論文)所有權利歸屬于技術(論文)所有人。僅供學習研究,如用于商業用途,請聯系該技術所有人。
我是此專利(論文)的發明人(作者)