本發明公開了一種基于鉻掩膜的鈮酸鋰薄膜亞微米線寬脊型光波導制備方法,包括以下步驟:獲取待加工的鈮酸鋰薄膜樣品;使用電子束蒸發鍍膜系統在所述鈮酸鋰薄膜樣品表面沉積鋁膜,在鋁膜表面旋涂光刻膠,用電子束曝光光刻機將掩膜圖案刻在樣品上;將樣品放置于顯影液中進行顯影,用電子束蒸發鍍膜系統在樣品表面沉積鉻膜;將樣品放入剝離液中,去除光刻膠,留下鉻掩膜圖形;利用電感耦合等離子體對樣品進行刻蝕,得到鈮酸鋰薄膜亞微米線寬脊型光波導。該方法可以制備獲得亞微米級線寬的脊型光波導,且光波導的側壁垂直度高,基于此工藝加工的鈮酸鋰光波導器件體積小,易集成,具有良好的光約束條件。
聲明:
“基于鉻掩膜的鈮酸鋰薄膜亞微米線寬脊型光波導制備方法” 該技術專利(論文)所有權利歸屬于技術(論文)所有人。僅供學習研究,如用于商業用途,請聯系該技術所有人。
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