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    低損耗鈮酸鋰薄膜光波導的制備方法

    1065   編輯：管理員   來源：中冶有色網  
    2023-03-18 21:47:12
    本發明公開了一種低損耗鈮酸鋰薄膜光波導的制備方法，首先采用LNOI作為初始材料；然后在LN薄膜層的表面鍍一層100nm厚的SiO2膜，并對其進行光刻，制作出條狀結構的2～3μm寬的SiO2掩模；接著把光刻后的樣品在520～550℃下LRVTE處理10～20個小時，得到LRVTE區域，將所述LRVTE區域的單晶LN薄膜制作成光波導；最后去除SiO2掩模，并對樣品的端面進行拋光處理。本發明采用LRVTE技術制作的LN薄膜光波導的芯層晶格結構未受損傷，各項光學指標完好地保留了鈮酸鋰體材料的固有的典型數值，可以實現較低的傳輸損耗低。
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