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    基于模擬型和數字型共存的MoS2基憶阻器及其制備方法

    736   編輯：管理員   來源：中冶有色網  
    2023-03-18 23:19:15
    本發明設計一種基于模擬型和數字型共存的MoS2基憶阻器及其制備方法，其結構由下至上依次包括襯底層、底電極層、二硫化鉬?聚合物?鋰鹽凝膠層、頂電極層；其特征在于：所述二硫化鉬?聚合物?鋰鹽凝膠層是作為阻變層，層狀的二硫化鉬均勻分散在聚合物中，為鋰離子和電子提供存儲位點，頂電極厚度為50?100nm，底端電極厚度為30?100nm，阻變層的厚度為100?300nm。本發明具有如下優點：在單一器件中存在模擬和數字憶阻行為共存的現象，并且存在多態存儲、閾值電壓小的憶阻器。該結構表現出的模擬和數字型共存的憶阻行為，為實現可調控的神經形態學習提供了一個可行的方案，促進類腦型形態計算的發展。
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    “基于模擬型和數字型共存的MoS2基憶阻器及其制備方法” 該技術專利(論文)所有權利歸屬于技術(論文)所有人。僅供學習研究，如用于商業用途，請聯系該技術所有人。
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