本發明公開了一種微凹輥間隙雕刻工藝,屬于鋰電子隔膜生產技術領域。其包括以下步驟:將微凹輥的輥面劃分為雕刻區和空白區,對雕刻區進行雕刻。本發明摒棄了現有的微凹輥網紋設計,提出以間隙雕刻的方式,根據所需涂布的隔膜進行設計網紋輥,針對性的解決特制化涂布的難點,讓隔膜涂布不再受微凹輥滿幅雕刻的網紋限制,其可涂布的涂布膜結構更加多元化。
聲明:
“微凹輥間隙雕刻工藝” 該技術專利(論文)所有權利歸屬于技術(論文)所有人。僅供學習研究,如用于商業用途,請聯系該技術所有人。
我是此專利(論文)的發明人(作者)