本發明屬于光學材料制備領域,具體公開了一種高折射率光學材料及其制備方法,所述高折射率光學材料由以下重量份的原料制備而成:二氧化硅50份、三氧化二硼20?40份、五氧化二鈮20?40份、二氧化鈦15?30份、三氧化二釓15?30份、二氧化鋯10?20份、氧化鑭10?20份、氧化鍶5?10份、二氧化鋯5?10份、氧化鋰5?10份、分散劑2?4份;本發明公開的高折射率光學材料不僅折射率高,且具有高透過率的特點,適合用于各類精密光學儀器。
聲明:
“高折射率光學材料及其制備方法” 該技術專利(論文)所有權利歸屬于技術(論文)所有人。僅供學習研究,如用于商業用途,請聯系該技術所有人。
我是此專利(論文)的發明人(作者)