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    氧化錫多孔薄膜及其制備方法

    972   編輯：管理員   來源：中冶有色網  
    2023-03-19 00:05:14
    本發明公開了一種氧化錫多孔薄膜及其制備方 法，屬于一種功能材料。本發明需要解決的技術問題是提供一 種氧化錫多孔薄膜及其制備方法，用這種方法所制成的氧化錫 多孔薄膜，其孔隙率高，比表面積大。本發明的技術方案要點 是，氧化錫多孔薄膜，孔徑為0.01－1000μm，孔隙率為20％ －70％，比表面積為10m2/g－ 150m2/g。氧化錫多孔薄膜的制備 方法，將錫源和有機酸置于反應器中在100－280℃在下攪拌溶 解得到錫的有機物前驅體，將上述前驅體放入馬弗爐內在大于 300℃條件下控溫燒結，制成氧化錫多孔薄膜。有機酸為檸檬 酸或者烏頭酸。錫源為金屬錫、二氯化錫、四氯化錫中的任一 種。本發明可用于氣敏元件、鋰電池陰極材料、催化、分離吸 附、光學及環境污染治理等領域。
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    “氧化錫多孔薄膜及其制備方法” 該技術專利(論文)所有權利歸屬于技術(論文)所有人。僅供學習研究，如用于商業用途，請聯系該技術所有人。
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