本發明為平面或管狀濺射靶材及其制備方法。已知由包含選自銦、錫、銻和鉍且總共占0.01到5.0重量%的重量分率的至少一種其它合金組分的銀基合金制成的平面或管狀濺射靶材。然而隨著靶材越來越大,火花放電變得明顯,且通常尤其在像素相對較小的大型高分辨率顯示器制造中導致損耗。為了基于這類銀合金制造表面積大的濺射靶材,其中該靶材作為平面濺射靶材時表面積大于0.3m2、作為管狀濺射靶材時長至少1.0m,且火花放電的危險得以降低因此使得可在相對較高功率密度下進行濺射過程,本發明提出,該銀基合金具有平均晶粒尺寸小于120μm的晶體結構、氧含量少于50重量ppm、雜質元素鋁、鋰、鈉、鈣、鎂、鋇和鉻各自含量均少于0.5重量ppm且金屬純度為至少99.99重量%。
聲明:
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我是此專利(論文)的發明人(作者)