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    暴露{111}晶面Cu2Se/Cu2O超晶格亞微米線的制備方法

    628   編輯：管理員   來源：中冶有色網  
    2023-03-19 00:08:22
    本發明公開了一種暴露{111}晶面Cu2Se/Cu2O超晶格亞微米線的制備方法，該方法是采用簡單的水熱法，以乙醇胺與蒸餾水的混合液為溶劑，將Se粉和KBH4、處理好的銅片水熱反應后在惰性氣體保護下煅燒，即可在銅片表面制備成暴露{111}晶面Cu2Se/Cu2O超晶格亞微米線，其直徑為0.23～2.14μm、長度17～420μm。本發明操作簡單，成本低，重復性和一致性好，所制備的暴露{111}晶面立方結構Cu2Se/Cu2O超晶格亞微米線可望在光催化、太陽能電池、超離子導體、鋰離子電池和超級電容器等應用中體現增強的光電性能。
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    “暴露{111}晶面Cu2Se/Cu2O超晶格亞微米線的制備方法” 該技術專利(論文)所有權利歸屬于技術(論文)所有人。僅供學習研究，如用于商業用途，請聯系該技術所有人。
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