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    二硫化鉬薄膜材料的制備方法

    766   編輯：管理員   來源：中冶有色網  
    2023-03-19 00:29:13
    一種二硫化鉬薄膜材料的制備方法，以MoS2靶材為原料，在氬氣和硫化氫混合氣體環境中，通過磁控濺射法在基底上制備MoS2薄膜，二硫化鉬薄膜材料的厚度為0.1-10.0μm。本發明的優點是：通過在磁控濺射技術使用Ar氣-H2S混合氣和基底加熱原位退火方式，可以保證MoS2薄膜實現均勻沉積并且S/Mo原子比保持在2∶1，增加濺射時間可以有效增加厚度，提高MoS2納米薄膜產量；該方法簡單快速，制備工藝簡單，厚度可控，方法薄膜便于控制，為其在光電池、鋰電池、固體潤滑劑和其他方面的廣泛應用提供了可能。
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