本發明涉及光伏電池生產設備技術領域，尤其涉及一種氧化鋁沉積設備及供氣方法。
背景技術：
氧化鋁鍍膜技術廣泛應用于晶硅太陽能電池、薄膜太陽能電池等新能源領域，現有的氧化鋁鍍膜技術主要有ald(原子層沉積)法、cvd(化學氣相沉積)法和溶膠凝膠等濕化學方法等，其中，cvd法應用廣泛，cvd法是指把含有構成薄膜元素的氣態反應劑或液態反應劑的蒸氣及反應所需其它氣體引入反應室，在襯底表面發生化學反應生成薄膜的過程。
在等離子體沉積氧化鋁膜的工藝中，需要用氬氣攜帶三甲基鋁(tma)進入到反應倉中與n2o進行反應。傳統氧化鋁沉積設備的氣路設計如圖1所示，液體三甲基鋁通過第一氣動閥6進入液體蒸發器控制系統3中，氬氣通過第二氣動閥7進入液體蒸發器控制系統3中，從而攜帶三甲基鋁進入反應倉5中進行反應，但在實際操作過程中，往往會存在因氬氣的純度不足而發生堵塞液體蒸發器控制系統3的現象，考慮到攜帶三甲基鋁所需的氬氣量比較小，因此，目前大多做法是通過降低氬氣的流量，來減小液體蒸發器控制系統3的堵塞概率。
但是在反應倉中，氧化鋁的生成涉及以下反應方程式：
2al(ch3)3+5ar+20n2o→al2o3+2co2+4co+9h2o+20n2+5ar
由上述反應方程式可以看出，雖然氬氣為用于攜帶三甲基鋁的氣體，不參與反應，但是，當有氬氣的存在時會消耗更多的n2o，從而促進三甲基鋁的完全反應。如果單純依靠降低氬氣流量來降低堵塞概率，則在后續氧化鋁的反應過程中會因氬氣含量不足而無法使三甲基鋁充分反應，影響鍍膜品質及生產產能。
技術實現要素：
本發明的目的之一在于克服現有技術中所述的缺陷，從而提供一種氧化鋁沉積設備，該氧化鋁沉積設備不僅可以有效降低的堵塞概率，而且還能提升鍍膜片的品質和生產產能，同時提升自動化上下料設備的開機速率。
本發明的基礎方案為：
一種氧化鋁沉積設備，包括三甲基鋁儲液倉、氬氣源、以及依次連通的液體蒸發器控制系統、混氣管和反應倉；
所述三甲基鋁儲液倉具有送液管，所述送液管與所述液體蒸發器控制系統連通；所述氬氣源具有并聯設置的第一送氣管和第二送氣管；所述第一送氣管與所述液體蒸發器控制系統連通；所述第二送氣管與所述混氣管連通，以向所述混氣管中補入氬氣，形成通入所述反應倉中的工藝氣體。
本發明中所說的液體蒸發控制系統是一個可以被應用于大氣或者真空工業加工過程中的
聲明：
“氧化鋁沉積設備及供氣方法與流程” 該技術專利(論文)所有權利歸屬于技術(論文)所有人。僅供學習研究，如用于商業用途，請聯系該技術所有人。
我是此專利(論文)的發明人(作者)
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編輯：中冶有色網
來源：晶澳太陽能有限公司
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2025年07月18日 ~ 20日 
