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    光學表面缺陷分析儀

    光學表面缺陷分析儀

    355
    規格/型號：Lumina AT1
    品牌：納騰
    應用領域：檢測設備
    產地：上海 - 上海
    廠家/供應商：上海納騰儀器有限公司
    咨詢電話:：021-6428 3335（請說明信息源自“中冶有色網”）
    更新時間：2025-07-07
    級別：待認證

    光學表面缺陷分析儀說明介紹

    光學表面缺陷分析儀

    光學表面缺陷分析儀


    一、簡介

    Lumina AT1光學表面缺陷分析儀可對玻璃、半導體及光電子材料進行表面檢測。Lumina AT1既能夠檢測SiC、GaN、藍寶石和玻璃等透明材料，又能對Si、砷化鎵、磷化銦等不透明基板進行檢測，其價格優勢使其成為適合于研發/小批量生產過程中品質管理及良率改善的有力工具。

    Lumina AT1結合散射測量、橢圓偏光、反射測量與表面斜率等基本原理，以非破環性方式對Wafer表面的殘留異物，表面與表面下缺陷，形狀變化和薄膜厚度的均勻性進行檢測。

    1.偏振通道用于薄膜、劃痕和應力點；

    2.坡度通道用于凹坑、凸起；

    3.反射通道用于粗糙表面的顆粒；

    4.暗場通道用于微粒和劃痕；

    二、 功能

    l 主要功能

    1. 缺陷檢測與分類

    2. 缺陷分析

    3. 薄膜均一性測量

    4. 表面粗糙度測量

    5. 薄膜應力檢測

    l 技術特點

    1.透明、半透明和不透明的材料均可測量，比如硅、化合物半導體或金屬基底；

    2.實現亞納米的薄膜涂層、納米顆粒、劃痕、凹坑、凸起、應力點和其他缺陷的全表面掃描和成像；

    3.150mm晶圓全表面掃描的掃描時間為3分鐘，50x50mm樣品30秒內可完成掃描并顯示結果；

    4.高抗震性能，系統不旋轉，形狀無關，可容納非圓形和易碎的基底材料；

    5.高達300x300mm的掃描區域；可定位缺陷，以便進一步分析；技術能力

    三、應用案例

    1. 透明/非透明材質表面缺陷檢測

    2. MOCVD外延生長成膜缺陷管控

    3. PR膜厚均一性評價

    4. Clean制程清洗效果評價

    5. Wafer在CMP后表面缺陷分析

    6. 多個應用領域，如AR/VR、Glass、光掩模版、藍寶石、Si wafer等

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    光學表面缺陷分析儀 表面缺陷分析儀 檢測設備
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    上海納騰儀器有限公司
    企業認證：
      
    所屬領域：
    檢測設備
    企業性質：
    -
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    -
    聯系電話：
    021-6428 3335
    詳細地址：
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