本發明涉及一種柵極單元及其制備方法、陣列基板的制備方法、顯示機構。該柵極單元的制備方法包括如下步驟:在襯底上設置導電層;在導電層遠離襯底的一側形成光刻膠層;對光刻膠層進行曝光處理,再經顯影而在光刻膠層上形成貫通光刻膠層的凹槽,形成具有圖案的光刻膠層;及在具有圖案的光刻膠層上電化學沉積功能材料,然后去除光刻膠層,得到形成有圖案層的導電層,得到柵極單元。采用上述制備方法得到的柵極單元能夠制備充電時間較短的陣列基板。
本發明涉及一種源漏電極的制備方法、陣列基板的制備方法和顯示機構。該源漏電極的制備方法包括如下步驟:在襯底上設置導電層;在導電層遠離襯底的一側形成光刻膠層;對光刻膠層進行曝光處理,再經顯影而在光刻膠層上形成貫通光刻膠層的凹槽,形成具有圖案的光刻膠層;及在具有圖案的光刻膠層上電化學沉積功能材料,然后去除光刻膠層,得到形成有圖案層的導電層,得到源漏電極。采用上述制備方法得到的源漏電極的電導率較高。
本發明涉及一種數據線的制備方法、陣列基板的制備方法和顯示機構。該數據線的制備方法包括如下步驟:在襯底上設置導電層;在導電層遠離襯底的一側形成光刻膠層;對光刻膠層進行曝光處理,再經顯影而在光刻膠層上形成貫通光刻膠層的凹槽,形成具有圖案的光刻膠層;及在具有圖案的光刻膠層上電化學沉積功能材料,然后去除光刻膠層,得到形成有圖案層的導電層,得到數據線。采用上述制備方法得到的數據線的電導率較高。
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