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    鎵摻雜氧化鋅透明導電膜的制備方法

    962   編輯：管理員   來源：中冶有色網  
    2023-03-18 15:03:02
    一種鎵摻雜的氧化物透明導電薄膜材料的制備 方法，屬于光電子信息功能材料技術領域。在ZnO薄膜中進行 鎵摻雜，用偏壓射頻磁控濺射技術在真空條件下，在有機聚合 物薄膜襯底上室溫制備出具有多晶結構的ZnO∶Ga透明導電 膜，濺射用陶瓷靶組分為氧化鋅和三氧化二鎵，工藝條件為： 氬氣分壓0.5－5Pa，濺射功率50－200W，濺射偏壓0～－100V。 制得薄膜的載流子濃度為1.2× 1021cm－ 3，遷移率為 13.5cm2V－ 1S－1，電阻率為 4.6×10－4Ωcm，方塊電阻6.2 Ω/□，可見光范圍的透過率超過83％?？鄢袡C材料襯底的 影響，在可見光范圍內薄膜的平均透過率可以達到90％，性能 優于ZnO∶Al薄膜，因此在有機平板顯示和有機光電子器件等 領域可以替代現有的透明導電膜材料。
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