一種GNP/PS?BT/PVDF選擇性復合薄膜及其制備方法。本發明屬于介電材料及其制備領域。本發明的目的是解決現有聚合物基高介電常數復合材料損耗因子高、絕緣性能差的技術問題。本發明的一種GNP/PS?BT/PVDF選擇性復合薄膜由BT/PVDF復合材料和GNP/PS復合材料經粉碎、混煉和熱壓而成,所述GNP/PS?BT/PVDF選擇性復合薄膜為具有微電容器結構的四元復合薄膜;其中BT/PVDF復合材料由BT和PVDF混煉而成,GNP/PS復合材料由GNP和PS混煉而成。方法:分別先預混形成GNP/PS復合材料和BT/PVDF復合材料,然后再將兩種復合材料粉碎后混煉,再進行熱壓,冷卻后得到GNP/PS?BT/PVDF選擇性復合薄膜。本發明的復合材料內部具有微電容器結構,在保證介電常數顯著提高的同時仍保持較高的擊穿場強和優異的綜合性能。
聲明:
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