本發明涉及一種氮化物熒光粉/低熔點玻璃粉復合熒光片層及其制備方法,按質量百分比,原料組分包括:SiO2包覆的氮化物熒光粉40~60%,低熔點玻璃粉60~40%。將包覆SiO2后的氮化物熒光粉和低熔點玻璃粉混合均勻,使用壓片機壓成薄片,將薄片在一定溫度下進行燒結,即可得到復合材料熒光片層。本發明的制備方法簡單,所得到的熒光片層具有好的光學性能與力學性能,可應用于激光激發熒光粉顯示等領域。
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