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    紫外光照消除可降解高分子薄膜表面皺紋的方法

    1104   編輯:管理員   來源:中冶有色網  
    2023-03-18 17:53:00
    本發明公開了一種紫外光照消除可降解高分子薄膜表面皺紋的方法,主要是針對以聚二甲基硅氧烷(PDMS)彈性體為基底,旋涂溶有一定質量分數可降解高分子的有機溶劑溶液構筑的軟硬復合體系,并通過施加外界應力使其表面產生皺紋形貌;然后,利用高分子薄膜的光降解反應,引起膜/基復合系統中應力場的擾動和松弛,從而實現表面皺紋圖案的消除。對已有的表面皺紋進行紫外光照,通過改變光照劑量等實驗參數,控制光照劑量與界面殘余應力的相對大小,可以調控復合體系表面皺紋的消除與否。本方法操作簡便,潔凈高效,在復合材料領域防止材料失效和提高材料使用壽命方面有著廣泛的應用前景。
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