本發明提供一種鈮酸鋰光芯片脊形波導的制備方法,屬于光芯片技術領域。因為在鈮酸鋰層與硬掩膜層之間設置了阻擋層,所以,在刻蝕硬掩膜層時,使得單位面積密度不同的兩個區域的條狀結構刻蝕均停止于阻擋層,所以,提高了刻蝕的均勻性和一致性。另外,鈮酸鋰具有較大的非線性光學系數、透光范圍寬、透過率高,在刻蝕鈮酸鋰層的過程中,因為設置有阻擋層,所以,減少了兩個密度分布不均的區域中條狀結構之間的深度差異,并克服了不同區域條狀結構中光源的串擾,從而提高了光芯片的光學性能。
聲明:
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