本實用新型涉及太陽能電池制造的技術領域，尤其涉及一種管式PECVD特氣爐。
背景技術：
常規的化石燃料日益消耗殆盡，在現有的可持續能源中，太陽能是一種最清潔、最普遍和最有潛力的替代能源。太陽能發電裝置又稱為太陽能電池或光伏電池，可以將太陽能直接轉換成電能，其發電原理是基于半導體PN結的光生伏特效應。
電池片在生產過程中，需要在硅片的表面鍍上一層減反射膜。目前，采用等離子體增強化學氣相沉積方法(Plasma Enhanced Chemical Vapor Deposition，PECVD)，使氣體在硅電池片表面發生化學反應并形成覆蓋層，即減反射膜。此減反射膜的主要作用是：降低反射率、良好的體鈍化和表面鈍化，以及利用氮化硅薄膜的強致密性和耐多數酸堿性，在硅片表面形成保護層。電池片的PECVD工序一般通過PECVD機完成，PECVD機在石英管的兩端通微波源，表面抽真空的條件下將氨氣和硅烷分解成高能離子狀態，經過一系列化學反應轉變成氮化硅氣體，在硅片表面沉積氮化硅固態薄膜，同時分解出來的氫離子，將硅片表面原有缺陷鈍化。
目前沉積氮化硅固態薄膜的設備主要有兩種，板式PECVD設備和管式PECVD特氣爐。如圖1所示，管式PECVD特氣爐的石英爐管1′內設置有石墨舟，石墨舟包括用于承載硅片的若干石墨舟片2′，硅片處于封閉的石英爐管1′中，與板式PECVD設備鍍膜相比，硅片不需要流動前進鍍膜，可以在表面有更好的鈍化作用，電池效率更高，同時，管式PECVD特氣爐主要對石墨舟進行維護，維護簡單，對生產的影響更小。但是，如圖1所示，現有的管式PECVD特氣爐只在管尾4′設有進氣口42′，氮化硅氣體從進氣口42′進入后，需要一定時間才能在石英爐管1′內充分擴散均勻，而實際工藝過程中，還要求氣體濃度隨時間變化以便生產出不同折射率的減反射膜層。為了控制總工藝時間，確保量產的需要，實際生成過程中并不能等硅烷和氨氣在石英爐管1′內充分擴散均勻后再開始沉積，導致石英爐管1′內均勻性不高。此外，石英爐管1′內的氣壓是通過爐尾4′的排氣口41′的開度控制的，排氣口41′離進氣口42′非常近，排氣也會影響氣體在管內的均勻性。硅烷和氨氣的不均勻分布導致管式PECVD特氣爐的成膜均勻性較差，從而導致管式PECVD特氣爐處理的硅片有較高的返工率。
技術實現要素：
本實用新型的目的在于提出一種噴氣均勻
聲明：
“管式PECVD特氣爐的制作方法” 該技術專利(論文)所有權利歸屬于技術(論文)所有人。僅供學習研究，如用于商業用途，請聯系該技術所有人。
我是此專利(論文)的發明人(作者)
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編輯：中冶有色網
來源：蘇州阿特斯陽光電力科技有限公司
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2025年07月23日 ~ 26日 
